2019年7月16日，我司成功中標(biāo)西安電子科技大學(xué)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備采購招標(biāo)項目。

本項目選用NANO-MASTER設(shè)計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng)，該系統(tǒng)為緊湊型設(shè)計PC 控制的獨(dú)立式下游式PECVD系統(tǒng)，占地面積僅為26”x44”（包含自動Load Lock 單元）,不銹鋼立柜。

本設(shè)備有以下主要突出優(yōu)勢：

1. 根據(jù)客戶的具體應(yīng)用和需求，配置NANO-MASTER設(shè)計的中空陰*密度離子源。帶淋浴頭的平面離子源，具有離子密度高、電子溫度低以及腔體占空比低的特點(diǎn)，從而帶來高速、超低損傷，以及快速反應(yīng)周期的優(yōu)勢，以實(shí)現(xiàn)低損傷高速率的沉積。
2. 配置NANO-MASTER先進(jìn)的OES&EPD光發(fā)射譜終點(diǎn)監(jiān)測功能，可以涵蓋所有可見光波長范圍，并通過LabView 軟件控制該終點(diǎn)監(jiān)測系統(tǒng)。
3. 系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置的RF 射頻電源為13.56MHz 600W 電源，配套自動調(diào)諧器給離子源供電，并配套300W低頻電源用于薄膜應(yīng)力控制。
4. 系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置的真空泵組包含渦輪分子泵和機(jī)械泵，極限真空可達(dá)到6x10^-7Torr。渦輪分子泵與腔體之間的直連設(shè)計，系統(tǒng)可獲得優(yōu)異的真空傳導(dǎo)率，20分鐘可達(dá)到10^-6Torr量級的高工藝真空，12小時達(dá)到10^-7Torr腔體極限真空。腔體壓力調(diào)節(jié)通過PC自動控制渦輪速度而全自動調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定。
5. 系統(tǒng)可支持單片或25片Cassette的Auto L/UL的升級，可實(shí)現(xiàn)自動進(jìn)樣、對準(zhǔn)、出樣，在不間斷工藝腔體真空的情況下連續(xù)處理樣片。Load Lock 腔體配套獨(dú)立的真空系統(tǒng)和真空計，通過PC全自動監(jiān)控。

近，那諾中國中標(biāo)喜訊頻傳，這離不開客戶對NAN0-MASTER綜合實(shí)力的認(rèn)可與信任。在未來，我們將會繼續(xù)秉承初心，用科技的力量實(shí)實(shí)在在助力客戶，實(shí)現(xiàn)更高水平的薄膜生長刻蝕技術(shù)。